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質(zhì)量流量控制器

簡要描述:質(zhì)量流量控制器 V 系列 MFC 是用于精確控制氣體質(zhì)量流量的設(shè)備,MFC 既可應(yīng)用于半導(dǎo)體前段制程,如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設(shè)備中, 也在光伏能源、真空鍍膜等領(lǐng)域有可觀的市場。
MFC 可通過對氣體流量的精準(zhǔn)控制,有效地提供更高的良率。

  • 產(chǎn)品型號:V 系列 MFC
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2025-05-09
  • 訪  問  量:60
  • 產(chǎn)品資料:

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質(zhì)量流量控制器 V 系列 MFC


質(zhì)量流量控制器 VG80 系列 MFC 是用于控制氣體質(zhì)量流量的零部件,具有以下特點1


  • 設(shè)計dute:采用 “雙閥 + 壓降 + 位置傳感" 的dute設(shè)計。

  • 性能youyue:響應(yīng)速度快,啟停時間≤100ms;測量精度高,可達(dá) ±0.5% S.P.;測量量程寬,在 2 - 100% F.S.;自診斷能力強,維護成本低。

應(yīng)用場景:MFC 既可應(yīng)用于半導(dǎo)體前段制程,如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設(shè)備中, 也在光伏能源、真空鍍膜等領(lǐng)域有可觀的市場。 MFC 可通過對氣體流量的精準(zhǔn)控制,有效地提供更高的良率。

該系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的 etch(刻蝕)、CVD(化學(xué)氣相沉積)、PVD(物理氣相沉積)、ALD(原子層沉積)、MOCVD(金屬有機化學(xué)氣相沉積)等工藝設(shè)備中,也適用于如 MPCVD(微波等離子體化學(xué)氣相沉積)、解熱解凍干燥、石英提純、醫(yī)療廢棄物處理等領(lǐng)域。

質(zhì)量流量控制器




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